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공용장비 및 사용안내

홈 > 기업지원 > 공용장비센터 > 공용장비 및 사용안내

장비명 : 집속이온빔장비 (Focused Ion Beam)

장비이미지
내용보기
단축명 FIB-SEM
모델명 Helios NanoLab 600i
제작사 FEI
도입년도 2013
장비분류 분석
설치장소 제1캠퍼스 공학1관 G107호(공용장비센터)
담당자 박수진
연락처 041-560-1478

내용보기
장비용도
▪현미경상을 관찰 뿐만 아니라 나노 단위의의 층이 적층된 구조의 시편에서 층의 두께 및 구조에 관하여 시편의 극소부분을 밀링하여 촬영 및 분석을 하는 시스템
Specifications
▪Electron Beam
A. Resolution : 0.9nm at 15kV, 1.4nm at 1 kV SE resolution with Shocttky Thermal Field Emitter (0.8nm at 30kV STEM)
B. Accerating Voltage : 0.2 kV to 30 kV
C. Beam Current : 22nA
▪Ion Beam
A. 4.0 nm at 30 kV ion beam resolution with liquid metal ion source
B. Accerating Voltage : 0.2 kV to 30 kV
C. Column Current Range : 0.1pA~65nA
▪Stage
A. XY Travel : 150mm
B. Z range : 100nm-10mm
C. Tilt Range : -10° to 60°
장비 요율 및 사용 안내
▪FIB Milling : 200,000원/시간
▪TEM Specimen Preparation (Si-Base) : 300,000원/샘플
▪SEM Imaging : 70,000원/시간(EDS포함)


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